- 资讯公开站EE Times
华为 Tau 定律进入商用阶段
Huawei’s Tau Law Takes Commercial Form
摘要显示，EE Times报道华为Kirin 9050 Pro芯片基于Tau（τ）缩放定律，标志着芯片架构的重大转变，旨在绕过EUV光刻限制。报道称这是Tau定律的商用形式，但未提供具体技术细节或性能数据。
意义：若Tau定律确能绕过EUV限制，将影响先进制程竞争格局，为无法获取EUV设备的厂商提供新路径。
- 资讯公开站EE Times
英特尔将High-NA EUV投入量产，但拼接技术仍待验证
Intel Puts High-NA EUV into Production, but Stitching Still Has Something to Prove
摘要显示，Intel已在Panther Lake芯片制造中验证High-NA EUV光刻技术，并投入量产。但报道指出，电气拼接（electrical stitching）和更大掩模版仍是后续需要克服的障碍。
意义：High-NA EUV量产落地将影响先进制程演进，拼接与掩模技术是后续良率与扩展关键。