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• 资讯公开站rss_electronics_weekly2026年10月11日 6:42

  ASML启动Hyper NA EUV研发计划

  ASML starts on Hyper NA EUV

  ASML启动为期十年的研发计划，拟将高NA光刻工具可实现的8纳米特征尺寸进一步缩小至5纳米，该5纳米光刻工具被称为Hyper NA EUV。

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